工程概况

该微电子工厂主要从事芯片的设计、开发、制造、销售和技术服务。新主厂房建成投产后，集成电路生产技术水平从现在在的1.2微米提升到0.8微米。厂区包括主厂房、化学品库、动力厂房、行政办公楼等。主厂房为三层建筑，从下至上依次为动力下技术夹层、洁净下技术夹层、洁净室。

室内参数

洁净室面积约5000平方米，洁净等级分为ISO 5级（100级）、ISO 6级（1000级）和ISO 7级（10000级），主要参数如下：

主生产区：温度23±1.5℃，相对湿度43±3%，高效过滤效率99.9995%@0.3μm，噪声≤60；

光刻区：温度23±1℃，相对湿度43±3%，高效过滤效率99.9995%@0.3μm，噪声≤60；

支持区：温度23±3℃，相对湿度45±5%，高效过滤效率99.9995%@0.3μm，噪声≤60。

空气处理

洁净室新风系统共配有四台新风机组，三用一备，每台新风处理机组新风量为130000立方米每小时。新风全部在屋面上的新风小屋采集，接入新风机组处理后，再通过风管直接送到洁净室吊顶上的静压箱与洁净室回风混合后再送入室内。

新风机组处理示意

初效—中效—预热—预冷—加湿—再冷—再热—风机—消声—预留—高效，重复以上流程。